我國(guó)科研團(tuán)隊(duì)實(shí)現(xiàn)晶界三維原子結(jié)構(gòu)成像
晶界作為材料中廣泛存在的重要缺陷,它的結(jié)構(gòu)和行為很大程度上決定了多晶材料的物理、化學(xué)和力學(xué)性能。晶界結(jié)構(gòu)和行為的研究一直是材料科學(xué)的研究焦點(diǎn)之一。雖然透射電子顯微技術(shù)的發(fā)展已將材料研究推進(jìn)到亞埃尺度,但是由于晶界結(jié)構(gòu)本身的復(fù)雜性以及傳統(tǒng)透射電鏡二維投影成像模式的限制,人們對(duì)實(shí)際晶體材料中的晶界結(jié)構(gòu)的認(rèn)知極其有限。因此,從實(shí)驗(yàn)上實(shí)現(xiàn)晶界三維原子結(jié)構(gòu)成像對(duì)深入認(rèn)識(shí)晶界具有重要意義。 R&OqmhT! l9 |x7GB 目前,傳統(tǒng)透射電子顯微技術(shù)(包括透射成像或掃描透射成像)可以對(duì)百納米厚度的樣品進(jìn)行形貌和原子結(jié)構(gòu)的投影成像。盡管像差校正技術(shù)已將透射電鏡的分辨率提高到亞埃尺度,但二維投影包含的有限性信息極易使人們對(duì)材料真實(shí)三維結(jié)構(gòu)的認(rèn)識(shí)產(chǎn)生偏差甚至誤解。因此,通過(guò)三維成像直接從納米,甚至原子尺度解析材料的三維結(jié)構(gòu)變得尤為重要。電子層析三維重構(gòu)技術(shù)(Electron Tomography)是電子顯微術(shù)與計(jì)算機(jī)圖像處理相結(jié)合而形成的一門(mén)具有重要應(yīng)用前景的新技術(shù)。近年來(lái),隨著電子顯微鏡、計(jì)算機(jī)技術(shù)和圖像處理算法的發(fā)展,電子層析三維重構(gòu)技術(shù)在生物、化學(xué)和材料科學(xué)等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。 <Rl:=(]i~ ^rDT+ x 近日,中國(guó)科學(xué)院金屬研究所沈陽(yáng)材料科學(xué)國(guó)家研究中心材料結(jié)構(gòu)與缺陷研究部杜奎課題組與合作者實(shí)現(xiàn)了原子分辨率電子層析三維重構(gòu)技術(shù),并解析了金屬晶界的三維原子結(jié)構(gòu),包括大角的結(jié)構(gòu)單元型晶界和小角的位錯(cuò)型晶界。相關(guān)研究結(jié)果以Three-Dimensional Atomic Structure of Grain Boundaries Resolved by Atomic-Resolution Electron Tomography為題,發(fā)表在Matter上。 ?rD`'B ^rKA=siz 與傳統(tǒng)研究中普遍認(rèn)為的晶界具有一維平移周期性不同,該研究表明實(shí)際晶體材料中大角晶界的結(jié)構(gòu)單元在三維空間不具有平移周期性。晶界原子配位數(shù)分析與曲率分布表明大角晶界的結(jié)構(gòu)單元分布、晶界局部曲率有關(guān)。小角晶界的三維重構(gòu)結(jié)果表明晶界位錯(cuò)形成了大量割階和扭折。三維原子尺度對(duì)割階和扭折直接成像從實(shí)驗(yàn)上證實(shí)了此前理論上提出的位錯(cuò)割階和扭折模型;诰Ы缭幼鴺(biāo),可以同時(shí)獲得晶界的晶體學(xué)信息與三維原子結(jié)構(gòu),由此可全面解析晶界結(jié)構(gòu)信息。通過(guò)電子層析三維重構(gòu)技術(shù)獲得的晶界三維原子結(jié)構(gòu),為后續(xù)晶界實(shí)驗(yàn)研究與計(jì)算模擬提供了重要參考,并推動(dòng)晶界結(jié)構(gòu)與行為、晶界-位錯(cuò)交互作用的研究。 ;I#S m; [attachment=104939] kUdl2["MZ 圖1.雙晶及多晶金屬的原子分辨率電子層析三維重構(gòu) v GF< ~[CtsCiQ [attachment=104940] wlh V!a0> 圖2.大角晶界(結(jié)構(gòu)單元型晶界)的三維原子結(jié)構(gòu)、晶界原子配位數(shù)與結(jié)構(gòu)單元組態(tài)分析 \I"UW1)B S!<1CFh [attachment=104941] >}43xIRRCq 圖3.小角晶界(位錯(cuò)型晶界)的三維原子結(jié)構(gòu)、晶界位錯(cuò)的扭折和割階組態(tài)及行為 tkG0xRH 研究工作得到國(guó)家自然科學(xué)基金、國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃等的資助。 C(7Y5\"P xF+a.gAIb 論文鏈接:https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2590238520305014
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