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2020-12-18 23:50 |
中芯國際將針對EUV光刻機與阿斯麥談判
業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥(ASML)就EUV光刻設備進行談判。報道稱,中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設備,盡管阿斯麥在法律上不受某些約束條件的影響,但仍存顧慮。
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[attachment=105075] ;t)3F 但據(jù)業(yè)內(nèi)觀察人士稱,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中芯國際將針對EUV光刻設備尋求與阿斯麥進行談判。 I<DL=V H[T?\Lq 本周二晚,中芯國際發(fā)布公告稱,蔣尚義獲委任為董事會副董事長、第二類執(zhí)行董事及戰(zhàn)略委員會成員,自2020年12月15日起生效。 t"sBPLU\ wC"FDr+ EUV光刻(即極紫外光刻)利用波長非常短的光,在硅片上形成數(shù)十億個微小結(jié)構(gòu),構(gòu)成一個芯片。與老式光刻機相比,EUV設備可以生產(chǎn)更小、更快、更強大的芯片。 6u?>M9 ),_@WW;k 報道稱,中芯國際計劃利用EUV光刻機器,來生產(chǎn)基于7納米以下制程技術(shù)的芯片產(chǎn)品。 S0$8@"~= #j;^\rSv- 近日有媒體報道稱,中芯國際已經(jīng)從20nm工藝制程,一直攻克到了3nm工藝制程,唯一缺的就是EUV光刻機。有了EUV光刻機,中芯國際也能進行3nm芯片的量產(chǎn)。 UklUw )J=!
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