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光行天下 -> ZEMAX,OpticStudio -> 反射式紋影儀系統(tǒng)的zemax模型構(gòu)建 [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本]

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oy87188	2021-05-19 15:57
反射式紋影儀系統(tǒng)的zemax模型構(gòu)建請(qǐng)教各位大佬，本人是zemax小白，最近在接觸反射式"Z"型紋影測(cè)量方法，不知道基于"Z"型反射式紋影測(cè)量的zemax模型是否有比較常規(guī)的模型可以提供？不知道哪位大佬能夠提供這方面的知識(shí)呢？ *Wbs{>&No d `MTc [attachment=107353]

arnold128	2021-05-20 10:32
沒(méi)有吧，序列模式由于不是同軸系統(tǒng)，需要斷點(diǎn)傾斜這類來(lái)處理，非序列的相對(duì)于序列模式可以省去斷點(diǎn)設(shè)置，斷點(diǎn)對(duì)于初學(xué)者不太友好，需要理解zemax的坐標(biāo)設(shè)定和光線的參考變化 {"v~1W)

guxiaopiao	2021-05-20 15:22
請(qǐng)問(wèn)，不均勻透明介質(zhì)，即紋影的研究對(duì)象如何在Zemax中設(shè)置呢？

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