| cyqdesign |
2021-10-22 09:51 |
鎧俠開發(fā)NIL半導(dǎo)體工藝 無需EUV光刻機(jī)制程直奔5nm
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后，EUV工藝是少不了的，但是EUV光刻機(jī)價格高達(dá)10億一臺，而且產(chǎn)量有限，導(dǎo)致芯片生產(chǎn)成本很高。日本鎧俠公司現(xiàn)在聯(lián)合伙伴開發(fā)了新的工藝，可以不使用EUV光刻機(jī)，工藝直達(dá)5nm。 e} | UVoeH
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據(jù)媒體報道，鎧俠從2017年開始與半導(dǎo)體設(shè)備廠佳能，以及光罩、模板等半導(dǎo)體零組件制造商DNP合作，在日本三重縣四日市的鎧俠工廠內(nèi)研發(fā)納米壓印微影技術(shù)(NIL)的量產(chǎn)技術(shù)，鎧俠已掌握15nm量產(chǎn)技術(shù)，目前正在進(jìn)行15nm以下技術(shù)研發(fā)，預(yù)計2025年達(dá)成。 i4 BCm/h
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與目前已實(shí)用化的極紫外光(EUV)半導(dǎo)體制程細(xì)微化技術(shù)相比，NIL更加減少耗能且大幅降低設(shè)備成本。 QLNQE
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