| cyqdesign |
2021-10-25 09:39 |
“一種光刻投影物鏡及光刻機(jī)”專利曝光
近日，上海微電子舉行新產(chǎn)品發(fā)布會，宣布推出新一代大視場高分辨率先進(jìn)封裝光刻機(jī)。目前，上微已與多家客戶達(dá)成新一代先進(jìn)封裝光刻機(jī)銷售協(xié)議，首臺將于年內(nèi)交付。光學(xué)光刻是一種用光將掩模圖案投影復(fù)制的技術(shù)，集成電路就是由投影曝光裝置制成的，將具有不同掩模圖案的圖形成像至基底上，制造集成電路、薄膜磁頭、液晶顯示板，或微機(jī)電等一系列結(jié)構(gòu)。 NFv> B>
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過去數(shù)十年曝光設(shè)備技術(shù)水平不斷發(fā)展，滿足了更小線條尺寸，更大曝光面積，更高可靠性及產(chǎn)率，以及更低成本的需求。然而現(xiàn)有的光刻投影物鏡依舊存在諸如數(shù)值孔徑較小、分辨率低、適用波段窄、數(shù)值孔徑不可變和非球面透鏡加工制造成本高等問題。 iTaWu
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