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光學相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強度校正——一個模型的研究
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infotek
2021-11-12 09:38
光學相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強度校正——一個模型的研究
本文以實驗結合光學軟件FRED來驗證熒光介質(zhì)上覆蓋散射層的影響,結合AF-OCT系統(tǒng)能夠減少由于上皮組織增厚引起的假陽性,增強AF疾病檢測的功效。
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