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infotek 2021-11-25 09:20

光柵結構中場分布的嚴格分析

該案例主要說明了周期性結構內(nèi)電磁場分布的嚴格計算。出于此目的，研究了兩種不同的系統(tǒng)：具有狹縫的矩形光柵和具有三角形狀的介質(zhì)光柵(等腰三角形)。 tco G;ir  
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1. 建模任務1：金屬光柵 }h Wv  p  
%]7 6u7b/  
[(Z(8{3i  
 在Ey (TE)偏振光照明下的光柵內(nèi)部場分布的嚴格仿真。 f$:Y'$Z1  
 對于這個仿真，采用傅里葉模態(tài)法。 `oNJ=,p  
e bp t/q[  
2. 建模任務2：介質(zhì)光柵 G 3U[)("  
_Vp"G)1Y  
 在Ex (TM)和Ey (TE)偏振光照明下的光柵內(nèi)部場分布的嚴格仿真。 O'(Us!aq  
 對于這個仿真，采用傅里葉模態(tài)法。 DcBAncsK  
E`_T_O=P  
3. 建模任務
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C[%Qg=<  
LTS{[(%  
 VirtualLab的光柵工具箱提供了場內(nèi)部分量分析器，用戶可以對光柵結構中的電磁場分布進行嚴格計算。 Q(-&}cY  
 通過該分析器，可以對任意形狀的光柵進行研究。 Z:^#9D{  
 場分布計算能夠檢測結構內(nèi)部的熱點 9soEHG=P  
"|I.j)  
4. TE和TM照明線性光柵
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E0RqY3  
5. 鉻狹縫的分析