| 探針臺 |
2022-04-05 09:16 |
俄羅斯宣布研發(fā)X射線光刻機(jī)
光刻機(jī)是半導(dǎo)體行業(yè)的明珠，美國希望在這個領(lǐng)域牢牢掌握主動權(quán)，因此對中俄等均進(jìn)行嚴(yán)格的限制和制裁，中國一直沒有最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，最近格科微引進(jìn)的先進(jìn)ArF光刻機(jī)也只是DUV的一種。而在俄烏沖突之際，昨天，美國更是對俄羅斯最大的芯片企業(yè)Mikron進(jìn)行全方位制裁。近日，有消息稱：俄羅斯將研發(fā)當(dāng)前全球最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，或許比ASML的EUV光刻機(jī)性能更先進(jìn)。請看詳情。 |{ 8eoF
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投資6.7億盧布 H!+T2<F9R
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據(jù)報道，俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)承接了貿(mào)工部開發(fā)制造芯片的光刻機(jī)項目，該項目由俄羅斯政府首期投資6.7億盧布資金（約合5100萬元人民幣）。研發(fā)的光刻機(jī)計劃達(dá)到EUV級別，但技術(shù)原理完全不同，是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機(jī)。 GG@&jcp7
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廣告“MIET已經(jīng)在無掩模EUV光刻領(lǐng)域取得了進(jìn)展，包括與國內(nèi)其他科研機(jī)構(gòu)和科學(xué)家團(tuán)體聯(lián)合開展的研究。該項目還將涉及 Zelenograd 公司 ESTO 和 Zelenograd 同步加速器，現(xiàn)在是國家研究中心庫爾恰托夫研究所的技術(shù)儲存綜合體 (TNK) Zelenograd。 * ydU3LG7
“基于在該國運行和發(fā)射的同步加速器，特別是在 TNK Zelenograd 的同步加速器以及國內(nèi)等離子源的基礎(chǔ)上，創(chuàng)造技術(shù)和設(shè)備，將使處理具有設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體晶片成為可能28 nm、16 nm 及以下，”聲明說。招標(biāo)文件包含這項研究工作（研發(fā)）的要求。“無掩模X射線納米光刻技術(shù)和正在開發(fā)的設(shè)備在國內(nèi)和世界上都沒有類似物�！� [$D4U@mRp
工貿(mào)部與 MIET 簽訂的合同價格為 6.7 億盧布。 ]1XJQW@gF
“我們談?wù)摰氖情L期的研發(fā)工作，從好的方面來說，這應(yīng)該在 15 年前就開始了，”關(guān)于這個項目的 Stimulus 雜志出版物的作者 Alexander Mechanik說�！� =H\ig% %E@
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俄羅斯光刻機(jī)技術(shù) 6*:mc
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目前，EUV光刻機(jī)全球只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機(jī)，使用的將是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。 sP+ZE>7
光刻機(jī)的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機(jī)分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝。 l]GUQcN=
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技術(shù)優(yōu)勢
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