| infotek | 2022-04-28 10:03 |
雙折射晶體偏振干涉效應(yīng) 雙折射晶體和偏振光干涉 光源偏振設(shè)置 雙折射材料方向和其他設(shè)定 干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看 漸變折射率(GRIN)材料 腳本設(shè)置漸變折射率材料 定性模擬結(jié)果 雙折射晶體和偏振光干涉 偏振光干涉現(xiàn)象在實際中有很多應(yīng)用，這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗，設(shè)置如下圖所示：左側(cè)是偏振光源，偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度，所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經(jīng)過方解石平板，厚2mm，光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片，偏振片方向與光源方向垂直（xy 平面，與x 夾角-45度），偏振片是通過設(shè)置偏振鍍膜來實現(xiàn)的。最右邊是接收分析面，光線在這里停止，用來計算光強。  圖1. 系統(tǒng)設(shè)置 下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊，選擇新建材料（create a new material），選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)（sampled birefringent and/or optically active material），波長設(shè)置為0.5875618，o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49，光軸方向設(shè)置為z軸（0，0，1）。  圖2. 雙折射材料 偏振片是通過偏振鍍膜來實現(xiàn)的，如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾，新建鍍膜，類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix)，然后默認的就是沿x軸偏振鍍膜。 | |