哈工大攻克超黑涂層常溫制備技術瓶頸
近日,哈爾濱工業(yè)大學對外發(fā)布消息稱,該;づc化學學院吳曉宏教授團隊在超黑涂層技術領域取得重要突破,攻克了超黑涂層常溫制備技術瓶頸,得到了一種朗伯特性顯著的高穩(wěn)定超黑涂層。 `+fk`5Y kyK'
[attachment=113286] wVQdUtmk 超黑涂層的遮光罩 .o"<N 經第三方權威機構檢測,該涂層寬光譜吸收高達99.8%,光線80°入射時總散射積分低至1.5%,可凝揮發(fā)物為0.00%,全面滿足多種基體、復雜形面、超大面積實施工藝和空間極端環(huán)境應用需求,性能與技術成熟度均優(yōu)于國內外現(xiàn)役同類產品。 a G@nErdW edTMl;4 據介紹,超黑涂層能吸收幾乎所有照射在其上的光,應用領域十分廣泛,絕大多數(shù)精密光學儀器,都需要超黑涂層來屏蔽光學干擾,提升信噪比和探測能力。 l-MxLcz F1\`l{B,\
[attachment=113285] 5Fr; 吳曉宏教授團隊成員展示相關產品 y-<$bA[K~ 20多年來,吳曉宏教授團隊針對工況條件“量身定制”出一系列滿足服役環(huán)境的超黑涂層,已交付遮光罩、擋光板、光闌筒、定標黑體等產品數(shù)千件,有效提升了我國航天器光學載荷的在軌探測能力和定位精度,為保證載荷全壽命周期高性能穩(wěn)定運行提供了必要條件。
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