TRCX：摻雜過(guò)程分析

i+[3o@   在 LTPS 制造過(guò)程中，使用自對(duì)準(zhǔn)掩模通過(guò)離子注入來(lái)金屬化有源層。當(dāng)通過(guò) TRCX 計(jì)算電容時(shí)，應(yīng)用與實(shí)際工藝相同的原理。工程師可以根據(jù)真實(shí)的 3D 結(jié)構(gòu)提取準(zhǔn)確的電容，并分析有源層離子注入前后的電位分布，如下圖所示。 M91lV(Z             (a)FIB 8>{W:?I   n6-Ic',;       (b) 摻雜前后對(duì)比

?GNF=#=M