俄羅斯科學(xué)院：2028年研發(fā)出光刻機，可生產(chǎn)7nm芯片
據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機構(gòu)公文，俄羅斯科學(xué)院下諾夫哥羅德應(yīng)用物理研究所 (IPF RAS) 正在開發(fā)俄羅斯首套半導(dǎo)體光刻設(shè)備，并對外夸下�？冢哼@套光刻機能夠使用 7nm 生產(chǎn)芯片，可于 2028 年全面投產(chǎn)。 k%Ma 4_Z
_uO!N(k.
[attachment=114927] 3WO#^}t
Центр управления реализацией Стратегии развития Нижегородской области Проектный офис {?@t/.4[W3
據(jù)介紹，他們計劃在六年內(nèi)制作出光刻機的工業(yè)原型，首先要在 2024 年開發(fā)一臺 alpha 機器。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性。 ;T5,T
WA]%,6
然后，到 2026 年，alpha 應(yīng)該被 Beta 所取代。屆時所有系統(tǒng)都將得到改進(jìn)和優(yōu)化，分辨率也將得到提升，生產(chǎn)力也將提高，許多操作將實現(xiàn)機械自動化。這一階段重要的是要將其集成到實際的技術(shù)流程中，并通過“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設(shè)備對其進(jìn)行調(diào)試。 J8GXI
|