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2022-11-02 08:40 |
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(第二版 精裝)
hu''"/raM K/+w6d 內(nèi)容簡(jiǎn)介 D_4UM#Tw Macleod軟件自帶的用戶(hù)手冊(cè)功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶(hù)快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專(zhuān)業(yè)書(shū)籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 7SpF& 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專(zhuān)家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書(shū)中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問(wèn)題,如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書(shū)共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開(kāi)始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來(lái),對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 +x"cWOg 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書(shū)中并附設(shè)計(jì)光盤(pán)和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見(jiàn),在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書(shū)能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過(guò)學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限,書(shū)中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免,本書(shū)若有不周之處,尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 (>gAnebN
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;~5w`F) ^qD@qJ 目錄 )./'`Mx? Preface 1 sVJwe\! 內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 WQT;k0;T] 目錄 i fb||q-E 1 引言 1 !O~5<tA[#1 2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 ;p}X]e l} 2.1 一般規(guī)則 2 k4ijWo{:0 2.2 正交入射規(guī)則 3 _laLTP* 2.3 斜入射規(guī)則 6 muqIh!nn 2.4 精確計(jì)算 7 y
2v69nu~q 2.5 相干性 8 9e:}qO5) 2.6 參考文獻(xiàn) 10 L_WVTz?` 3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 ntT~_Ba8;u 4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32 [$b\#{shtP 4.1 容量和局限性 33 b#<@&0KE 4.2 程序在哪里? 33 E6NrBPm 4.3 數(shù)據(jù)文件 35 7f9i5E1 4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35 [rt+KA 4.5 材料數(shù)據(jù)庫(kù)和資料庫(kù) 37 *l-(tp5 4.5.1材料損失 38 &J~%Nt 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入材料 39 Ltt+BUJc 4.5.2 材料庫(kù) 41 z
a^s%^:yK 4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 ]8i2'x 4.6 常用單位 43 {} 11U0 4.7 插值和外推法 46 #n_uELE 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 '<YVDB&-d, 4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 @Yy:MdREA 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 uJP9J U
4.11 撤銷(xiāo)和重做 56 K{)YnY_E; 4.12 設(shè)計(jì)文檔 57 K&WNtk3hT 4.10.1 公式 58 q3s
+?& 4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 dU~DlaEy( 4.10.3 沉積密度 59 ]k(n_+! 4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 ;uC +5g` 4.10.5 漸變折射率和散射層 60 {,|J?>{ 4.10.4 性能 61 u,6 'yB'u 4.10.5 保存設(shè)計(jì)和性能 64 lTh}0t 4.10.6 默認(rèn)設(shè)計(jì) 64 |# zznT" 4.11 圖表 64 z
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