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華為EUV光刻新專利：解決相干光無法勻光問題
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cyqdesign
2022-11-19 18:20
華為EUV光刻新專利：解決相干光無法勻光問題
據報道，華為周二公布了一項新專利，展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基礎上進行了優(yōu)化，進而達到勻光的目的。
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