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infotek 2023-01-30 08:51

《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(第二版 精裝)

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內(nèi)容簡介 E2GGEKrW  
Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 @eqeN9e  
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié),結(jié)合當前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實用性強。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合,從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來,對實際鍍膜提出實用的建議,以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 :hGPTf  
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計光盤和參考文獻,有興趣者可依此深入研究,為精準起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限,書中錯誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 zb6ju]2  
7\o!HMfK  
訊技科技股份有限公司
2015年9月3日
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目錄 1 4 LI5T  
Preface 1 2?@j~I=s2h  
內(nèi)容簡介 2 }U@m*dEG  
目錄 i TEUY3z[g  
1  引言 1 1Xy]D  
2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 sqx` ">R  
2.1  一般規(guī)則 2 'H9=J*9oG  
2.2  正交入射規(guī)則 3 _<ut)G^9  
2.3  斜入射規(guī)則 6 =Nz0.:  
2.4  精確計算 7 NGYyn`Lx  
2.5  相干性 8 r!}al5~&  
2.6 參考文獻 10 n{*e 9Aw  
3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 +@X5!S6  
4  Essential Macleod的特點 32 [fu!AIQs  
4.1  容量和局限性 33 O!D/|.Q#%  
4.2  程序在哪里? 33 _eLWQ|6Fx  
4.3  數(shù)據(jù)文件 35 }~Q"s2  
4.4  設(shè)計規(guī)則 35 y0v]N  
4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 lC 97_ T  
4.5.1材料損失 38 }aB#z<B6  
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 @|bP+8oU  
4.5.2 材料庫 41 `,wu}F85  
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 /Tz85 [%6  
4.6  常用單位 43 4X NxI1w)  
4.7  插值和外推法 46 m9M FwfZ  
4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 4^c- D  
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 jdeva t,&u  
4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 <<MjC5  
4.11 撤銷和重做 56 T0j2a &Pv  
4.12  設(shè)計文檔 57 vUQFQ  
4.10.1  公式 58 lfk9+)  
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 >5~7u\#9  
4.10.3  沉積密度 59 ETv9k g  
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 ^ L:cjY/  
4.10.5  漸變折射率和散射層 60 HU B|bKy  
4.10.4  性能 61 /I&wj^   
4.10.5  保存設(shè)計和性能 64 B%<e FFV\  
4.10.6  默認設(shè)計 64 >L((2wfiN  
4.11  圖表 64 B7Ntk MK  
4.11.1  合并曲線圖 67 "YFls#4H-  
4.11.2  自適應(yīng)繪制 68 )"@t6.  
4.11.3  動態(tài)繪圖 68 "u}9@}*  
4.11.4  3D繪圖 69 f<[jwhCWV  
4.12  導(dǎo)入和導(dǎo)出 73 +2cs#i  
4.12.1  剪貼板 73 PW}OU9is  
4.12.2  不通過剪貼板導(dǎo)入 76 {