Pixelligent推出2.0折射率納米壓印光學(xué)材料PixNIL

近日，復(fù)合材料供應(yīng)商Pixelligent宣布將于Photonics West會(huì)議上介紹新款低殘留層光學(xué)材料PixNIL，以及該材料應(yīng)用在AR眼鏡上的優(yōu)勢(shì)。據(jù)悉，PixNIL具有1.8到2.0+折射率（RI），殘留層（RLT）小于100納米，號(hào)稱可提供主流AR眼鏡所需的優(yōu)秀光學(xué)性能。 ; hU9_e  
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Pixelligent總裁兼CEO Craig Bandes表示：在主流AR眼鏡的競(jìng)爭(zhēng)中，那些提供卓越光學(xué)性能、適合長(zhǎng)時(shí)間佩戴、功能豐富的頭顯才能勝出。 6n/KL  
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對(duì)于AR來講，光學(xué)元件的折射率越高，F(xiàn)OV通常也越寬，進(jìn)而可以更好的提升視覺體驗(yàn)。細(xì)節(jié)方面，PixNIL分為含溶劑和無溶劑版本，可根據(jù)客戶需求設(shè)置折射率，并制造出具有出色光學(xué)性能和穩(wěn)定機(jī)械性能的高折射率薄膜。