| cyqdesign |
2023-02-14 10:27 |
上海光機(jī)所極紫外光刻掩模缺陷檢測(cè)研究取得進(jìn)展
近日，中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所信息光學(xué)與光電技術(shù)實(shí)驗(yàn)室提出了一種基于生成對(duì)抗網(wǎng)絡(luò)（GAN）的極紫外（EUV）光刻掩模相位型缺陷檢測(cè)技術(shù)，相關(guān)成果以“Phase defect characterization using generative adversarial networks for extreme ultraviolet lithography”為題發(fā)表在Applied Optics上。
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