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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備 -> 低溫TI3O5  SIO2。RF輔助鍍膜。膜強(qiáng)度差。什么原因造成? [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本] [打印本頁]

repent134 2023-03-30 09:36

低溫TI3O5  SIO2。RF輔助鍍膜。膜強(qiáng)度差。什么原因造成?

成膜后破壞鍍膜表層,用擦拭液擦拭膜層延展性比較大
yzhuang 2023-03-30 09:58
這個Ti3O5成膜溫度一般不能太低吧,建議150℃以上,低溫成膜牢固度與吸收均不夠理想,如果想低溫成膜,高折射率材料用Ta2O5可能更好一些 y/>IF|aX  
repent134 2023-03-30 10:10
主要SIO2打底層,掉膜也是掉到了基板
小時候_我很帥 2023-03-30 12:32
離子源&充氧&電子槍速率方面看下
嚶?lián)糸L空 2023-03-31 01:27
建議測一下溫度
石前林 2023-03-31 10:54
基片是否干凈,擴(kuò)散泵是否返油,第一層速率及離子源參數(shù) u5N&W