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infotek 2023-08-10 08:28

JCMSuite應用—衰減相移掩模

在本示例中,模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示: 5<Lal^c D  
IB'gY0*  
m2i'$^a#  
O]| T !  
掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方,位于相移區(qū)域。 /Dmuvb|A  
|8DMj s()*  
由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式),在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設(shè)置3DTo2D = yes標簽,以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動轉(zhuǎn)換。啟用此標記后,就可以描述傳入?yún)^(qū)域,就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設(shè)置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入,光線的傳輸方向為+Z方向。 )z:"P;b"Nl  
vtm?x,h  
相位分布如下圖所示: n`W7g@Sg#I  
Ct8}jg"  
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