| gangzi0801 |
2023-10-25 16:49 |
偏振三維成像技術的原理和研究進展
近年來偏振三維成像技術因具有精度高、作用距離遠和受雜散光影響小等特點得以蓬勃發(fā)展，但利用目標反射光偏振特性進行法向量精確求解的問題一直沒有真正得到解決，成為制約該技術發(fā)展的瓶頸。此外，由于目標表面鏡面反射光與漫反射光間的相互干擾，造成高精度偏振三維成像實現(xiàn)困難。該綜述介紹了偏振三維成像物理機理、目標表面出射光偏振特性，以及偏振三維成像研究進展。最后總結了目前偏振三維成像面臨的問題和未來的發(fā)展方向。 EDT9O
iD*21c<
| |