用于二維光柵的元件內(nèi)部場(chǎng)分析器
隨著VirtualLab Fusion版本2023.2的最新發(fā)布，添加了許多新的有用工具。但新奇之處還不止于此：我們還借此機(jī)會(huì)升級(jí)了一些以前存在的功能。我們將焦點(diǎn)放在了元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀：FMM上，這是一種允許用戶可視化和研究微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部場(chǎng)分布的工具。分析器現(xiàn)在還可以分析2D周期性結(jié)構(gòu)。 2E
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元件內(nèi)部場(chǎng)分析儀：FMM zu-1|X X
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這個(gè)例子演示了如何計(jì)算1D或2D周期性微米或納米結(jié)構(gòu)內(nèi)部的電磁場(chǎng)分布。 )-4xI4
抗反射蛾眼結(jié)構(gòu)的嚴(yán)格分析與設(shè)計(jì) Md4JaFA(
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利用傅立葉模態(tài)方法和VirtualLab Fusion中的參數(shù)優(yōu)化，我們展示了蛾眼啟發(fā)的抗反射結(jié)構(gòu)的分析和設(shè)計(jì)。
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