線下培訓(xùn) | 第32屆《ASAP光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》招生中
武漢墨光長(zhǎng)久以來(lái)成功召開(kāi)多期《 ASAP 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》線上線下培訓(xùn)。武漢墨光將于2024年3月18日-22日開(kāi)展第32屆《 ASAP 光學(xué)系統(tǒng)雜散光分析與控制》線下培訓(xùn)班。本次培訓(xùn)共計(jì)5天時(shí)間,課程涉及【理論知識(shí)+案例實(shí)操】?jī)蓚(gè)模塊的學(xué)習(xí),講師現(xiàn)場(chǎng)互動(dòng)答疑,旨在讓所有學(xué)員能夠熟練掌握 ASAP 高級(jí)光學(xué)系統(tǒng)分析軟件。以下是本次培訓(xùn)的課程詳情: Ui:WbH<b{ [attachment=125070] :`jB1rI VK)vb.: 課程大綱 Hsdcv~Xr;l D5Z@6RVt
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