正業(yè)科技“一種X射線無損檢測光學(xué)成像系統(tǒng)及檢測設(shè)備”專利公布

據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，正業(yè)科技取得一項名為“一種X射線無損檢測光學(xué)成像系統(tǒng)及檢測設(shè)備”，授權(quán)公告號CN220525686U，申請日期為2023年3月。 #lld*I"d  
專利摘要顯示，本實用新型涉及X射線檢測的技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種X射線無損檢測光學(xué)成像系統(tǒng)及檢測設(shè)備。所述X射線無損檢測光學(xué)成像系統(tǒng)包括一個X射線源及多個探測器；所述X射線源用于發(fā)射X射線，所述X射線向遠離所述X射線源的方向逐漸向外錐形發(fā)散；多個所述探測器均布置于所述X射線覆蓋的范圍內(nèi)，多個所述探測器與所述待檢測物體上的多個待檢測位置為一一對應(yīng)的關(guān)系，各所述探測器與所述X射線源的連線經(jīng)過所述待檢測物體上對應(yīng)的一個待檢測位置，所述探測器用于接收所述X射線并將光信號轉(zhuǎn)化為電子信號。本申請主要解決現(xiàn)有的X射線檢測設(shè)備在提高檢測效率時存在成本較高的技術(shù)問題。 Gi=s|vt