| infotek | 2024-07-24 07:52 |
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。  建模任務(wù)  概述 •案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。 •接下來(lái)，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。  光線追跡仿真 •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。 •單擊go！ •獲得了3D光線追跡結(jié)果。  光線追跡仿真 •然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。 •單擊go！ •結(jié)果得到點(diǎn)圖（二維光線追跡結(jié)果）。  場(chǎng)追跡仿真 •切換到場(chǎng)追跡，然后選擇“第二代場(chǎng)追跡”作為模擬引擎。 •單擊go！  場(chǎng)追跡仿真（相機(jī)探測(cè)器） •上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量積分的強(qiáng)度。 •下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強(qiáng)度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對(duì)較大，因此可見(jiàn)明顯的不對(duì)稱性。 | |