一種高增益低散斑對(duì)比度菲涅爾光學(xué)屏及其制備方法

根據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，四川長(zhǎng)虹新獲得一項(xiàng)發(fā)明專利授權(quán)，專利名為“一種高增益低散斑對(duì)比度菲涅爾光學(xué)屏及其制備方法”，專利申請(qǐng)?zhí)枮?CN202211279501.9，授權(quán)日為 2024年7月26日。 Tt`L(
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專利摘要：本發(fā)明公開了一種高增益低散斑對(duì)比度菲涅爾光學(xué)屏及其制備方法，包括依次設(shè)置的菲涅爾基材層、菲涅爾功能層、菲涅爾光學(xué)微結(jié)構(gòu)層和菲涅爾反射層，菲涅爾基材層 A 面的表面粗糙度在 50nm～200nm 范圍內(nèi)；菲涅爾功能層內(nèi)設(shè)有不同粒徑和不同表面粗糙度的光學(xué)粒子；菲涅爾光學(xué)微結(jié)構(gòu)層由若干個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)成排設(shè)置而成，且若干個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)的節(jié)距從下至上逐漸縮�。环颇鶢柟鈱W(xué)微結(jié)構(gòu)層與菲涅爾反射層相嵌合。本發(fā)明利用激光相干性及光學(xué)粒子擴(kuò)散理論分析，降低菲涅爾基材層表面的粗糙度、增加不同功能之間折射率插值，有效提高菲涅爾光學(xué)屏增益、降低菲涅爾散斑對(duì)比度；通過(guò)底角 θ 與節(jié)距 D 的搭配，大幅度提高光能量利用率。 )&XnM69~b