應用反演工程對四層減反膜進行分析
有很多的過程可以被稱之為反演工程，但在Essential Macleod中，該術語的意思是用來識別理想設計的和實際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化，在優(yōu)化過程中，將初始設計進行優(yōu)化，以滿足一組優(yōu)化目標。優(yōu)化的目標是測量出來的、有問題的膜層性能，但有的時候會有很復雜的情況。在正常的優(yōu)化中，經(jīng)常會有多個解決方案，但是，由于我們通常會從中選擇一個合適的設計，所以多個解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中，只有一個正確答案，多個解決方案可能是災難性的，那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案？這一點沒有完全嚴格的測試方法，因此我們只能利用所掌握的關于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗以及各種不同的約束來指導過程。同時，作為目標的測量結(jié)果應盡可能精確，這一點至關重要。因此，盡管反演工程本質(zhì)上是一個優(yōu)化器，但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。 :_y}8am;H~
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我們可以看一個在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應用。這是使用四層SiO2和Ta2O5，我們在每個Ta2O5層中引入誤差，在第四層中，靠近基板厚度+10%，在較厚的第二層中厚度-10%。正確設計和錯誤設計的反射率如圖1所示，其中考慮了基板背面的影響。 _: 0
圖1.橙色曲線表示無誤差四層設計的性能，黑色曲線表示有誤差的性能。這兩條曲線都包括基板后表面的影響。 FV->226o%
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我們要做的第一件事就是通過File-New子菜單設置中創(chuàng)建新的反演工程。該工具立即要求導入正確的設計，圖2，Next，圖3，是我們需要的基板，默認是從設計中讀取的。如果在后表面變黑或磨平的情況下測量性能為反射率，則應使用Wedge屬性。最后，我們需要導入測量性能。圖4顯示了這個階段工具的外觀。 =5jng.
圖2.反演工程工具的對話框，其中應輸入無錯誤設計的路徑。 /T_@rm
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圖3.反演工程中的第二個和第三個對話框，我們在其中輸入基板細節(jié)，然后輸入測量的性能。性能可以是反射率、透射率或橢圓參數(shù)。 Z*
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