| infotek | 2024-11-07 08:00 |
散射方向關(guān)注的區(qū)域-重點采樣技術(shù)散射方向關(guān)注的區(qū)域（Scatter Direction Regions of Interest）是有效散射計算的主要部分。它們可以將散射光線引導(dǎo)到只關(guān)注的區(qū)域。在產(chǎn)生散射光線時，F(xiàn)RED評估由散射方向關(guān)注的區(qū)域所朝向的立體角，并處理輻射度，以便于基于BSDF散射模型可以計算正確的通量。本文提供了一個分步過程，用于定位和確定最大效率的散射方向關(guān)注區(qū)域的大小。  圖1.在光學(xué)表面上具有散射方向關(guān)注的區(qū)域的庫克三片式鏡頭的光線追跡 散射方向關(guān)注的區(qū)域在每個表面（Surface）對話框的散射（Scatter）選項卡上指定，如圖2所示。多個散射方向關(guān)注的區(qū)域可以分配給任何給定表面。然而，應(yīng)注意不要給表面分配重疊的多個散射方向關(guān)注的區(qū)域，因為FRED將不會辨別這種重疊，因此散射通量將被過度估算。  圖2.指定散射方向關(guān)注的區(qū)域的表面散射標(biāo)簽 所有表面在創(chuàng)建時都分配有默認(rèn)的散射方向關(guān)注的區(qū)域。該默認(rèn)值的類型是散射到給定方向（Scatter into a given direction），如圖3所示，其散射到圍繞給定方向朝向給定半角的錐形。方向矢量可以在任何坐標(biāo)系中指定。有關(guān)散點方向關(guān)注區(qū)域類型的完整列表，請參閱FRED的幫助主題-重點采樣（Importance Sampling）。  圖3.默認(rèn)重點采樣 根據(jù)其中發(fā)生散射的光學(xué)空間，存在兩種關(guān)注的一般情況。首先，考慮準(zhǔn)直空間的情況，其包括外部平坦窗口，以及無焦和重新成像光學(xué)器件之間的中間空間。在這種空間中，探測器表面尺寸和位置由其尺寸和系統(tǒng)視場（FOV）決定。因此，準(zhǔn)直空間中最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是默認(rèn)的散射到給定方向，同時設(shè)置適當(dāng)?shù)慕嵌取?/span>  圖4.閉合曲線散射方向關(guān)注的區(qū)域 接下來，考慮光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的光束在其中會聚或發(fā)散的區(qū)域。在這些空間中，散射方向關(guān)注的區(qū)域可以被認(rèn)為是從給定表面看到的探測器的表觀位置和大小。因此，最有效的散射方向關(guān)注的區(qū)域類型是通過閉合曲線散射（Scatter through a closed curve），如圖4所示。本文概述的步驟設(shè)計為確定該閉合曲線的大小和位置。 關(guān)于圖3和4中的對話框上的其他數(shù)據(jù)（Other Data），反轉(zhuǎn)光線方向（Reverse Ray Directions）、散射光線數(shù)目（Number of Scattered Rays）的選項與本討論相關(guān)。反轉(zhuǎn)光線方向?qū)е律⑸涔饩�被引導(dǎo)遠(yuǎn)離散射方向關(guān)注的區(qū)域。 當(dāng)探測器的表觀位置為虛擬時，此選項是必需的。散射光線數(shù)目選項可以設(shè)置每個入射光線散射射線的數(shù)量。此數(shù)值確定了散射光線對散射方向關(guān)注的區(qū)域采樣的程度。 對于相對小的朝向立體角，默認(rèn)10是足夠的。然而，在探測器的表觀形狀高度畸變的情況下，有必要增大該值。 在會聚和發(fā)散空間中尋找散射方向關(guān)注的區(qū)域 以下闡述的8個步驟定義了用于在成像系統(tǒng)中找到散射方向關(guān)注的區(qū)域的系統(tǒng)方法。這些步驟可以使用FRED的腳本語言自動完成。 1）在目標(biāo)表面的中心創(chuàng)建一個發(fā)射光源。該光源應(yīng)為詳細(xì)光源（Detailed Source），位置類型是隨機平面（Random Plane），方向類型是一個角度范圍內(nèi)的隨機方向（Random Directions into an angular range），如圖5所示。通過將光源的起始坐標(biāo)系設(shè)置為目標(biāo)表面的起始坐標(biāo)系，可以容易地定位光源。[注意：根據(jù)目標(biāo)表面局部坐標(biāo)系的方向，可能需要將光線方向（Ray Direction）下的ZDir組件設(shè)置為-1。]給該光源一個接近零的尺寸（紅色箭頭1）和一個足夠的角度擴展（紅色箭頭2），足夠從探測器上的任何位置填充系統(tǒng)f錐體。盡管光線會被浪費，但沒關(guān)系。  圖5.光線位置和方向的詳細(xì)光源設(shè)置（參考步驟1） 2）使用如圖6所示的高級光線追跡（Advanced Raytrace）對話框，追跡該光源到關(guān)注的元件。這應(yīng)該使用明確指定開始/停止表面（Specify start/stop surfaces explicitly），如紅色箭頭3所示進行。選擇不要執(zhí)行透射/反射操作（Do not perform the transmit/reflect operation）選項，如紅色箭頭4所示。為了防止其他表面的外來散射干擾計算，請選擇Suppress ray scattering選項，如紅色箭頭5所示。也可以禁用光線追跡摘要（Raytrace Summary）來限制打印到FRED的輸出窗口。 [注意：高級光線追跡對話框是無模式的，應(yīng)在步驟4中使應(yīng)用/追跡（Apply/Trace）按鈕保持打開狀態(tài)。確定按鈕將關(guān)閉對話框，以便在后續(xù)操作中重新設(shè)置這些選項。  圖6.步驟2中重要采樣測定的高級光線追跡設(shè)置 3）執(zhí)行此追跡后，打開最佳幾何聚焦（Best geometric focus）對話框，如圖7所示。最佳幾何聚焦必須僅考慮關(guān)注元件上的光線，因此光線選擇標(biāo)準(zhǔn)（Ray Selection Criteria）（紅色箭頭6）應(yīng)指示相同的表面，如在圖6所示（紅色箭頭3）。為了一致性，建議在全局坐標(biāo)系（紅色箭頭7）中進行該計算。  圖7.最佳聚焦對話框 最佳聚焦位置打印在FRED的輸出窗口中，如圖8（紅色箭頭8）所示。這是關(guān)注的重點采樣區(qū)域的位置。如果該位置和探測器的實際位置在表面的同一側(cè)，則關(guān)注的重點采樣區(qū)域是實像。如果散射表面位于最佳聚焦位置和探測器之間，則關(guān)注的重點采樣區(qū)域是虛像。在后一種情況下，必須檢查反轉(zhuǎn)光線方向（Reverse Ray Directions）選項。注意在步驟5中使用的歸一化的平均光線方向（紅色箭頭9）。  圖8.最佳聚焦計算的輸出 4）返回到發(fā)射光源對話框（圖9），并將隨機平面 XY尺寸（紅色箭頭10）設(shè)置為等于探測器的尺寸。使用與步驟2中相同的設(shè)置，使用高級光線追跡對話框再次追跡光源。  圖9：隨機平面尺寸 5）打開光線追跡菜單上的光線操作功能（Ray Manipulation Utility）（圖10），選擇傳播到（Propagate to）（紅色箭頭11）。如果我們參考圖8（紅色箭頭9），平均光線方向?qū)⒅甘具x擇哪個下拉選項。如果向量是[±1,0,0]，則為X坐標(biāo)軸；如果向量為[0, ±1,0]，則為Y坐標(biāo)軸；如果向量為[0,0, ±1]，則為Z坐標(biāo)軸。輸入在步驟3中確定的相應(yīng)的X，Y或Z最佳聚焦值（紅色箭頭8）。底部的光線規(guī)格（紅色箭頭13）必須設(shè)置為與圖7的最佳對焦對話框（紅色箭頭6）相同，以確保只移動關(guān)注的元件上的光線。 | |