| speos |
2024-12-02 14:28 |
hyperlith光刻軟件
極紫外光刻 (EUV) pF7N = mO
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嚴(yán)格的 OPC 和源優(yōu)化 C/Qm tT~`e
嵌入式多層鏡面缺陷任意缺陷幾何形狀 )[J @s=
可檢測(cè)性 E
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印刷適性 K a&
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離軸陰影效應(yīng)、HV 偏差（包括非常量散射系數(shù)）吸收器堆棧分析（EM-Stack）吸收器輪廓（側(cè)壁和拐角圓化吸收體缺陷EUV 的 OPC（小面積）多層鏡面結(jié)構(gòu) (PSM) KK5;6b
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