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sorry6741 2007-05-27 15:52

磁控濺射中，磁場(chǎng)該如何做最好的配置

磁控濺射中，磁場(chǎng)該如何做最好的配置，因?yàn)槲覐S的靶材使用時(shí)，靶材利用率很差，靠近裡面打的厚、外圍就打的薄，請(qǐng)問到底磁鐵在配置時(shí)該如何做最佳配置，是否要研究磁力線分佈
荷塘月色 2007-07-02 21:52
此情況是屬在非平衡磁場(chǎng)的基礎(chǔ)上嚴(yán)重磁力分布不均。而且濺射靶材不宜過厚。
msgt 2007-07-11 17:59
不是很明白
sorry6741 2007-07-11 23:34
濺射靶材為何不宜過厚啊
韓成錫 2007-07-12 15:24
非平衡磁控濺射的磁場(chǎng)本身就是不對(duì)稱分布，不管如何調(diào)整總會(huì)有一個(gè)有效濺射面積問題。由于磁場(chǎng)磁力線的分布，受到轟擊最充分的位置是在距離中心和邊緣均有一定距離的環(huán)形面上；把磁力線調(diào)整到能夠覆蓋靶面更大范圍可以提高一些靶材利用率，但效果有限。 Hr+-ndH!Pq  
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靶材厚度不宜做的太厚。因?yàn)榇艌?chǎng)分布的原因，濺射一段時(shí)間后靶面會(huì)形成一個(gè)環(huán)形凹槽，靶做的越厚利用率就越低（除去環(huán)形部分被濺射掉，中心部分和邊緣部分剩下的越多，浪費(fèi)越嚴(yán)重）
fineday36 2009-05-06 21:53
我也遇到此類問題,調(diào)整磁鐵相對(duì)于靶面的距離,來調(diào)整磁力線,可以改良這種情況
liulianrui 2009-06-02 16:00
最好用專業(yè)的軟件來設(shè)計(jì)磁場(chǎng)分布，以確定磁鋼的大小、強(qiáng)度、位置和靶材的尺寸。我公司專業(yè)制造磁控濺射靶，材料利用率高，濺射穩(wěn)定。有問題可以直接聯(lián)系我，我們相互切磋dzmr.liu@126.com
bislarge 2009-06-03 23:05
我也知道怎么解決這個(gè)問題
bislarge 2009-06-03 23:07
可聯(lián)系，，czbvacuum@163.com
玻璃人 2009-09-08 14:52
學(xué)習(xí)了�。�！
huangchian 2009-10-03 11:21
回答的大俠說得很有道理 頂一個(gè)
朱小朱 2010-10-22 14:34
學(xué)習(xí)了 A'( 7VJ  
09njtpw 2010-10-24 16:05
貌似靶材的利用率都不高的，混合材料的靶的確不應(yīng)該做得太厚的
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