研磨或拋光對(duì)光學(xué)鏡片腐蝕的影響
光學(xué)玻璃腐蝕是伴隨著光學(xué)玻璃拋光及拋光下盤以后的全過程,它受拋光粉及拋光用水的酸堿度以及拋光液使用時(shí)間延續(xù)趨于呈堿性及周圍環(huán)境中潮濕空氣、酸性氣體等因素影響而產(chǎn)生的一種化學(xué)腐蝕。因此,可以認(rèn)為光學(xué)玻璃腐蝕是一個(gè)化學(xué)過程,如果僅僅停留在拋光下盤以后,采用若干防護(hù)措施,顯然是不夠的。應(yīng)在拋光過程中就采取必要的防護(hù)措施。 Tx]p4wY:D
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