| universalpei |
2010-04-21 15:35 |
世界最先進(jìn)的納米劃痕儀
美國(guó)NANOVEA納米劃痕測(cè)試儀 Z-U-n/ 6I
飾 美國(guó)NANOVEA公司是一家全球公認(rèn)的劃痕測(cè)試儀的領(lǐng)航者，生產(chǎn)的劃痕測(cè)試儀是目前國(guó)際上用在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域最先進(jìn)的設(shè)備之一，該公司在光學(xué)設(shè)計(jì)、精密機(jī)械和科學(xué)軟件算法方面，擁有長(zhǎng)期不斷發(fā)展的專利技術(shù)，由于這些專門技術(shù)的應(yīng)用，NANOVEA為生產(chǎn)和質(zhì)量控制的研究和發(fā)展提供精密準(zhǔn)確的全方位解決方案。 ~SzHIVj:6
納米劃痕儀主要用于界定涂層薄膜與基底的結(jié)合強(qiáng)度、涂層失效形式，薄膜的抗劃痕強(qiáng)度與基底的變形尺度等，主要應(yīng)用在： rd_! 'pG
1. 半導(dǎo)體技術(shù)(鈍化層、鍍金屬、Bond Pads)； y@Gl'@-O
2. 存儲(chǔ)材料(磁盤的保護(hù)層、磁盤基底上的磁性涂層、CD的保護(hù)層)； r'F )8%
3. 光學(xué)組件(接觸鏡頭、光纖、光學(xué)刮擦保護(hù)層)； y/vGt_^;3<
4. 金屬蒸鍍層； @LyCP 4
5. 防磨損涂層(TiN, TiC, DLC, 切割工具)； DYf3>xh>xb
6. 藥理學(xué)(藥片、植入材料、生物組織)； 1XppC[))
7. 工程學(xué)(油漆涂料、橡膠、觸摸屏、MEMS)； Zb Ag^2
主要特點(diǎn)有： faIHmU
1. 完全符合ASTM D7187，D7027，D1624，C171，ISO 20502，ISO 1518 8pXului
2. 光學(xué)顯微鏡自動(dòng)觀察 ~fF_]UVq3
3. 壓電陶瓷反饋控制 " L9yG:
4. 加載載荷與劃痕深度的實(shí)時(shí)測(cè)量 "7z1V{ ;Y
5. 實(shí)時(shí)三維表面輪廓測(cè)量 j1~'[
可選件有： "/k TEp
1. 多種劃痕針頭 hU|TP3*
2. 微米、顯微模塊 sx^0*h-Qq
3. 硬度測(cè)試模塊 ( 5/>arDn
4. 摩擦磨損測(cè)試模塊 |Y tZOQu
5. 聲發(fā)射模塊 5 >x?2rp
6. AFM模塊 7Zw.mM!i
7. 三維顯微模塊 k.n- JS
性
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