| universalpei |
2010-04-26 15:42 |
光學輪廓儀
美國NANOVEA公司的三維非接觸式表面形貌儀 三維光學輪廓儀(3D Profiling) 0,-]O=
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該儀器采用白光軸向色差原理（性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀）對樣品表面進行快速、重復性高、高分辨率的三維測量，測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌，臺階高度，給MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)和生產提供了一個精確的、價格合理的計量方案 [ f\Jcjc
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這款產品憑借其當今世界最前端的技術,迅速占領國內外市場, 'DXT7|Df
產品特性： u`wD6&y*
1 采用白光軸向色像差技術，可獲得納米級的分辨率 O`Qke
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2 測量具有非破壞性，測量速度快，精確度高 f"gYXaVF+
3 測量范圍廣，可測透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)； 4<tbZP3/6)
4 尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面 EKO'S+~
5 不受樣品反射率的影響 j =U"t\{
6 不受環(huán)境光的影響 4S*ifl
7 測量簡單，樣品無需特殊處理 ">!pos`<C
8 Z方向最大測量范圍為27mm =RXeN+
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美國NANOVEA公司是一家全球公認的在微納米尺度上的光學表面輪廓測量技術的領導者，生產的光學輪廓儀是目前國際上用在科學研究和工業(yè)領域最先進表面輪廓測量設備，該公司在光學設計、精密機械和科學軟件算法方面，擁有長期不斷發(fā)展的專利技術，由于這些專門技術的應用，NANOVEA為生產和質量控制的研究和發(fā)展提供精密準確的全方位解決方案。 `3jwjy| 5
NANOVEA的表面測量系統(tǒng)適用于研發(fā)和生產過程控制中的定性和定量測量，其核心部件達到納米尺度的創(chuàng)新的光學設計，其強大且友好的軟件控制使所需獲得的數(shù)據(jù)不僅速度快，而且精度高，并提供了多種不同的表面分析方法，與系統(tǒng)匹配的軟件包含參數(shù)設定(如掃描尺寸、線數(shù)、步進、轉換臺速度、數(shù)據(jù)采樣速度)和數(shù)據(jù)后處理功能(如Abbott-Firestone曲線、快速傅立葉變換、自相關功能、三維成像、二維切片成像等) ，可以定量地測量表面粗糙度及關鍵尺寸，諸如晶粒、膜厚、孔洞深度、長寬、線粗糙度、面粗糙度等，并計算關鍵部位的面積和體積等參數(shù)。 8 pf]M&
垂直測量范圍：27mm #/Ob_~-? j
垂直分辨率：<2nm q_ ^y ma
掃描速度 1m/s R|}4H*N
橫向分辨率：5nm !YpH\wUyvP
可視區(qū)域： 400*600mm oj.J;[-
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環(huán)球（香港）科技有限公司 dh%O {t
裴之利 15801657153
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