| cyqdesign | 2012-09-29 22:55 |
微光學(xué)和納米光學(xué)制造技術(shù)《國際信息工程先進(jìn)技術(shù)譯叢:微光學(xué)和納米光學(xué)制造技術(shù)》參編作者都是微納米光學(xué)制造技術(shù)領(lǐng)域的專家，代表了當(dāng)今微光學(xué)加工的領(lǐng)先水平�？晒┕怆娮宇I(lǐng)域從事光學(xué)儀器設(shè)計(jì)、光學(xué)設(shè)計(jì)和光機(jī)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)（尤其是從事光學(xué)成像理論、微納米光學(xué)研究）的工程師使用，也可以作為大專院校相關(guān)專業(yè)本科生、研究生和教師的參考書。 [attachment=44485] 定價(jià)：￥ 66.00 優(yōu)惠價(jià)格：￥ 49.50 可以享受免費(fèi)送貨，貨到付款。  本帖為實(shí)體書購買信息推薦，暫無電子文檔！ 目錄 譯者序 前言 第1章面浮雕衍射光學(xué)元件 1.1制造方法 1.2周期和波長(zhǎng)比 1.3光柵形狀 1.4深度優(yōu)化 1.5錯(cuò)位失對(duì)準(zhǔn) 1.6邊緣圓形化 1.7幾何形狀偏離引起形狀雙折射光柵相位響應(yīng)的變化 1.8表面紋理結(jié)構(gòu) 1.9熔凝石英表面的紋理結(jié)構(gòu) 1.10太陽電池的表面紋理結(jié)構(gòu) 1.11 8階熔凝石英DOE樣片的制造方法 1.12成形金屬基準(zhǔn)層的制造工藝 1.13轉(zhuǎn)印成形和第一層掩模板的刻蝕 1.14轉(zhuǎn)印成形和第二層掩模板的刻蝕 1.15轉(zhuǎn)印成形和第三層掩模板的刻蝕 致謝 參考文獻(xiàn) 第2章微光學(xué)等離子體刻蝕加工技術(shù) 2.1概述和回顧 2.2基本的刻蝕處理技術(shù) 2.3玻璃類材料的刻蝕工藝 2.4硅材料微光學(xué)結(jié)構(gòu)的刻蝕 2.5具有灰度微光學(xué)結(jié)構(gòu)的Ⅲ-V族材料的刻蝕工藝 2.6 GaN、SiC和Al2O3刻蝕微光學(xué)元件 2.7Ⅱ-Ⅵ族材料ZnSe和寬光譜ZnS的刻蝕工藝 2.7.1 ZnSe和ZnS光學(xué)元件的應(yīng)用 2.8紅外刻蝕材料——紅外玻璃IG6 | |