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heshuhon

2013-08-12 17:12

關(guān)于lighttools里面BPO布點(diǎn)能否加入初始位移量

用lighttools做個(gè)背光源，要求雙面出均勻光，布點(diǎn)時(shí)候直接用BPO布點(diǎn)了，發(fā)現(xiàn)雙面布點(diǎn)沒法加入初始位移，使得兩面點(diǎn)大小相同密度相同但錯(cuò)開一個(gè)點(diǎn)位
正反兩面都用hexagonal分布圓點(diǎn)，反射和透過都寫50%，split ray，問BPO能否在不移動(dòng)我初始布好的點(diǎn)位置情況下僅優(yōu)化點(diǎn)大小？
目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點(diǎn)位置上優(yōu)化大小不希望他動(dòng)到點(diǎn)的位置，這樣怎么處理？
求高手
另外同時(shí)優(yōu)化雙面出光斑時(shí)能不能把兩個(gè)評(píng)估函數(shù)整合到一起，優(yōu)化每一面的光板都對兩面的綜合情況進(jìn)行優(yōu)化？
求高手啊~

hahahahk	2013-09-30 17:20
只改變點(diǎn)大小不改變位置的設(shè)置如下： U(gYx@ [attachment=51447] }kG>6_p? +Sc2'z>R 優(yōu)化同時(shí)考慮兩個(gè)面的設(shè)置如下： 5"y)<VLJX [attachment=51448]

zincwang	2014-01-14 19:58
hahahahk:只改變點(diǎn)大小不改變位置的設(shè)置如下： p>f?Rw_ [圖片] ef!f4u\ 優(yōu)化同時(shí)考慮兩個(gè)面的設(shè)置如下： LM 1Vsh< [圖片] (2013-09-30 17:20) U(Bmffn4Z 7G7"Zule*j 謝謝，好棒

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