| saa0125 |
2013-09-04 16:43 |
Zemax 設計求助
針對機構(gòu)進行光線追跡的模擬，但是使用非序列設計時利用poly object 功能進行機構(gòu)的繪製。 O :5ldI
在輸入各面的資訊時均將所需反射或穿透的地方進行設定，但是光源放上去跑出來卻是原來應該反射的地方?jīng)]有反射 )AZ`R8-A
希望穿透的地方卻發(fā)生反射 ' eTpcrS3
請教各位大大是不是在poly object 編輯設定上有問題 L>|A6S#y8/
ZVCv(J
EX: R 1 2 3 4 0 (我設定反射面是這樣設定，假設點1 2 3 4 構(gòu)成平面並使用參數(shù)0進行反射) 4kN : =g
T 5 6 7 8 0 (我設定穿透面是這樣設定，假設點5 6 7 8 構(gòu)成平面並使用參數(shù)0進行穿透) pJ<)intcbE
r)*_,Fo|
請各對大大協(xié)助解決問題~~感激不盡 tFb|y+
lUm}nsp=X
附件模擬的圖形資料~未標註的面均為穿透面~ ^+.e5roBKj
oQE_?">w
[attachment=50959]
|
|