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zlygsl 2017-05-08 18:56

濾光膜測試

大家好,最近在鍍時用TFCalc模擬的結果如下,Stack: (HL)^10 L (HL)^10,H: Si3N4,L: SiO2,其中高、低折射率材料是用的實際鍍膜后實際測試的折射率參數,應該比較真實吧。 0KU,M+_  
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但測試結果如下,除了透射峰的位置不準確外,透射峰基本上沒有了,為什么結果很差。我一直認為是吸收太大所致,但模擬時采用的是真實測量的n、k值,多層膜吸收已經考慮之后進行的模擬,請大家?guī)兔Ψ治鲆幌拢浅8兄x! _~| j~QE]  
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zlygsl 2017-05-11 18:43
希望有相關經驗的朋友不吝賜教,非常感謝!
黃康牛 2017-05-12 18:26
都是大神
iuggtg 2018-02-10 18:02
公差太大。SIO2整體對比于Si3N4隨便多走1%或者少走1%。透射峰都會被沖掉。至于透射峰位置不準確就是整體膜系都走多了(整體都能誤差到這個地位,何況精度要求幾納米的波峰 )。而且出射介質個人用的是就是基底。樓主用的是空氣?赡芙坛炭吹牟灰粯。 (y7U}Sb'  
對比于模擬與實際,樓主選用的NK是沒問題的。 ;,}tXz  
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