為避免樣品面形的影響，最簡單的方法就是分別測量樣品的兩個表面。樣品的前表面容易測量，為測量其后表面，要繞與光軸垂直的軸翻轉(zhuǎn)樣品180o。這種方法可以用圖3所示的測量系統(tǒng)。
測量系統(tǒng)中，假設(shè)系統(tǒng)的參考平面誤差為S(x，y)，樣品前表面的面形誤差為A(x，y)，樣品后表面的面形誤差為B(x，y)，系統(tǒng)后反射面的面形誤差為C(x，y)，樣品的折射率為n0，樣品的厚度為t，△n(x，y)為此樣品的折射率變化量（即不均勻性），則
第一步，樣品前表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M1(x，y)=2 S(x，y)+2 A(x，y) （2）
第二步，樣品繞x軸翻轉(zhuǎn)180o后，其后表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M2(x，y)=2 S(x，y)+2 B(x，-y) （3）
可以在數(shù)學(xué)上使M2(x，y)繞軸翻轉(zhuǎn)180o，從而得到
M′2(x，y)= M2(x，-y)=2 S(x，-y)+2 B(x，y) （4）
第三步，樣品在參考面和系統(tǒng)后反射面之間時，系統(tǒng)后表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M3(x，y)=2 C(x，y)-2(n0-1)A(x，y)-2(n0-1)B(x，y)+2t△n(x，y)+2 S(x，y) （5）
第四步，取出樣品后，系統(tǒng)后表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M4(x，y)=2 C(x，y)+2 S(x，y) （6）
在方程（5）減方程（6）后，再加上（n0-1）乘以方程（2）加方程（4）得到
M3(x，y)- M4(x，y)+(n0-1)[ M1(x，y)+ M′2(x，y)]
=-2(n0-1)[A(x，y)+ B(x，y)]+ 2t△n(x，y)+2(n0-1)[A(x，y)+ B(x，y)+ S(x，y)+ S(x，-y)]
=2t△n(x，y)+2(n0-1)[ S(x，y)+ S(x，-y)] （7）
于是
△n(x，y)={ M3(x，y)- M4(x，y)+(n0-1)[ M1(x，y)+ M′2(x，y)]}/ 2t-(n0-1)[ S(x，y)+ S(x，-y)]
=2t△n(x，y)+ 2(n0-1)[ S(x，y)+ S(x，-y)] （8）
可以看到，在上面的計算式中，既不包含樣品的面形誤差，也不包含系統(tǒng)后反射鏡的面形誤差，這樣在原理上就避免了對樣品和系統(tǒng)后反射鏡的面形的高質(zhì)量要求。但也看到，系統(tǒng)的誤差不但沒有消除（除非它的誤差沿轉(zhuǎn)動軸反對稱），而且實際上反而增加了。  
2.3 絕對測量法[ 2 ~ 4 ]
為避免系統(tǒng)誤差的影響，可以用如圖4和圖5所示的測量過程。
同上面的樣品翻轉(zhuǎn)法一樣，假設(shè)系統(tǒng)的參考平面誤差為S(x，y)，樣品前表面的面形誤差為A(x，y),樣品后表面的面形誤差為B(x，y)，系統(tǒng)后反射面的面形誤差為C(x，y)，樣品的折射率為n0，樣品的厚度為t，△n(x，y)為此樣品的折射率變化量（即不均勻性），則
第一步，樣品前表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M1(x，y)=2 S(x，y)+2 A(x，y) （9）
第二步，樣品后表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M2(x，y)=2 S(x，y) -2n0B(x，y) -
2(n0-1)A(x，y) +2t△n(x，y) （10）
第三步，樣品在參考面和系統(tǒng)后反射面之間時，系統(tǒng)后表面反射光波與參考光波干涉檢測得到波相差：
M3(x，y)=2 C(x，y)-2(n0-1)A(x，y)-
2(n0-1)B(x，y)+2t△n(x，y)+2 S(x，y) （11）[/A]