第四步，取出樣品后，系統(tǒng)后表面反射光波與參考光波干涉檢測(cè)得到波相差：
M4(x，y)=2 C(x，y)+2 S(x，y) （12）
在方程（5）減方程（9）后，再減去方程（5）減方程（10）得到
M1(x，y)- M2(x，y)= 2n0 [A(x，y)+ B(x，y)] -2t△n(x，y) （13）
在方程（5）減方程（11）后，再減去方程（5）減方程（12）得到
M3(x，y)- M4(x，y)= -2(n0-1) [A(x，y)+ B(x，y)]+ 2t△n(x，y) （14）
于是
△n(x，y)={ (n0-1)[ M1(x，y)- M2(x，y)]+ n0 [ M3(x，y)- M4(x，y)]}/ 2t （15）
可以看到，在上面的計(jì)算式中，不僅不包含樣品的面形誤差，而且也不包含系統(tǒng)和系統(tǒng)后反射鏡的面形誤差，在原理上是一種樣品光學(xué)均勻性的絕對(duì)測(cè)量方法，這樣降低了對(duì)樣品、系統(tǒng)和系統(tǒng)后反射鏡的質(zhì)量要求。這種測(cè)量方法對(duì)樣品的光學(xué)均勻性檢測(cè)精度很高。影響精度的主要原因是干涉儀的隨機(jī)誤差，如用Zygo數(shù)字干涉儀，隨機(jī)誤差可以小于λ/30。因此對(duì)于厚為30mm左右的樣品來說，檢測(cè)精度可達(dá)到 5×10-7。
3.采用絕對(duì)測(cè)量原理的高精度光學(xué)均勻性測(cè)量?jī)x
從前面光學(xué)均勻性檢測(cè)方法的分析中，知道光學(xué)均勻性的絕對(duì)測(cè)量方法精度高，但對(duì)樣品、系統(tǒng)和系統(tǒng)后反射鏡的質(zhì)量要求不很高，選用這種原理研制了一臺(tái)大孔徑光學(xué)均勻性測(cè)量?jī)x。干涉測(cè)量?jī)x采用斐索干涉儀結(jié)構(gòu)，系統(tǒng)的基本組成如圖5所示。對(duì)干涉圖的處理用的是條紋法。
4.實(shí)驗(yàn)結(jié)果及結(jié)論
對(duì)實(shí)際口徑為250mm的樣品檢測(cè)得到的四幅干涉圖如圖6(a)～圖6(d)所示。最后處理得到的樣品光學(xué)均勻性的結(jié)果如圖7所示。
圖8是用Zygo干涉儀檢測(cè)同一個(gè)樣品的一部分（100mm口徑）并用自編程序處理的結(jié)果。
用條紋法處理干涉圖的大口徑光學(xué)均勻性測(cè)量?jī)x的精度從理論來說主要取決于條紋中心的處理精度。一般條紋中心精度也就在0.1條條紋左右，由此引起的波相差測(cè)量誤差為λ/20左右。對(duì)于40mm厚的樣品測(cè)量精度來說，應(yīng)在1×10-6左右。對(duì)比圖7和圖8的測(cè)量結(jié)果可以看出，樣品的光學(xué)均勻性絕對(duì)值相差不超過1×10-6�？紤]到Zygo干涉儀測(cè)量時(shí)樣品口徑要比所研制的測(cè)量?jī)x測(cè)量時(shí)的樣品口徑小，則其相差就更小。因此認(rèn)為，所研制的大口徑光學(xué)均勻性測(cè)量?jī)x的精度可以達(dá)到1×10-6左右。這同作者認(rèn)為的一般條紋法的精度一致。
   
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