特定光線生成器工具使用序列系統(tǒng)創(chuàng)建一組“臨界”光線數(shù)據(jù)。這些光線為確保在轉(zhuǎn)換為非序列模式時(shí)對(duì)系統(tǒng)所作的更改，或在非序列模式下所做的其它更改（例如添加元件以減少雜散光或添加光學(xué)擋板）是無害的提供了基礎(chǔ)。它創(chuàng)建了一個(gè)*.CRS文件，它可以通過特定光線比對(duì)(Critical Ray Tracer)在非序列模式下進(jìn)行光線追跡，或用作光源文件。請(qǐng)注意，特定光線生成器只在OpticStudio的旗艦版中可用。

使用如上面的屏幕截圖所示的特定光線生成器中的默認(rèn)設(shè)置，然后單擊OK，您將返回到轉(zhuǎn)換至NSC組窗口。

將轉(zhuǎn)換至NSC組(Convert to NSC Group)中的所有選項(xiàng)都設(shè)為選中狀態(tài)，單擊OK。這將創(chuàng)建一個(gè)名為“Double Gauss 28°field-PROD-NONSEQ.zmx”的新文件。此文件包含在文章附件中以供參考。

轉(zhuǎn)換完成后新文件將自動(dòng)打開，查看非序列元件編輯器。不只使用標(biāo)準(zhǔn)透鏡(Standard Lens)物體代替鏡頭數(shù)據(jù)編輯器(Lens Data editor)中的標(biāo)準(zhǔn)面(Standard)，還設(shè)有光源物體(Source Objects)和探測(cè)器物體(Detector Objects)：

將視場(chǎng)數(shù)據(jù)編輯器(Field Data Editor)中的每個(gè)序列視場(chǎng)轉(zhuǎn)換為等效的非序列橢圓光源。

此外，利用點(diǎn)列圖分析方法計(jì)算了每個(gè)序列視場(chǎng)在像面上的質(zhì)心位置。然后，在這些質(zhì)心位置插入矩形探測(cè)器，我們可以看到對(duì)應(yīng)于每個(gè)視場(chǎng)的注釋。

這是一個(gè)平面成像的聚焦系統(tǒng)，所以每個(gè)視場(chǎng)點(diǎn)的矩形探測(cè)器位于同一個(gè)XY平面。這些矩形探測(cè)器很小，并且在X和Y方向分開，所以矩形探測(cè)器不會(huì)重疊，這對(duì)于大多數(shù)聚焦系統(tǒng)來說都是正確的設(shè)置。

然而，在某些系統(tǒng)中，矩形探測(cè)器可能更大，或者距離更接近，因此它們可能會(huì)重疊。如果發(fā)生這種情況，那么將遵循嵌套規(guī)則，一些探測(cè)器可能無法看到所有光線。在這種情況下，我們需要手動(dòng)調(diào)整探測(cè)器的位置，使它們之間的距離大于系統(tǒng)選項(xiàng)(System Explorer)中的“膠合距離(Glue Distance)”。

打開分析(Analyze)選項(xiàng)卡>光線追跡(Ray Trace)，使用默認(rèn)設(shè)置運(yùn)行一次光線追跡(Ray Trace) （打開忽略錯(cuò)誤(Ignore Errors)）。打開探測(cè)器查看器，查看每個(gè)視場(chǎng)的分析結(jié)果：