《中國制造2025》技術(shù)路線圖:未來攻關(guān)EUV光刻機、18寸晶圓
硅基半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)為什么能發(fā)展壯大?因為硅元素是地球上儲備最多、成本最低的半導(dǎo)體材料之一,沙子中就含有大量的硅,就連英特爾制作過的宣傳片都叫做“從沙到芯片”。不過另一方面,半導(dǎo)體行業(yè)又是全球制造業(yè)最高端的行業(yè)之一,也是中國正在努力攻破的產(chǎn)業(yè)。在《中國制造2025》技術(shù)路線圖中,列出了多種需要攻克的半導(dǎo)體工藝,值得注意的是EUV光刻機以及18英寸晶圓產(chǎn)業(yè)。 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的設(shè)計、制造、封測三大行業(yè)里,中國公司需要掌握的新技術(shù)多了去了,《中國制造2025》的技術(shù)路線圖中就列舉了大量產(chǎn)業(yè)技術(shù),包括HKMG金屬柵極工藝、FinFET工藝、多重曝光、193nm光刻膠、光掩膜以及各種先進的封裝技術(shù),而在重大裝備及管件材料方面,則有如下技術(shù)內(nèi)容: 在制造裝備、光刻機、制造材料及封裝設(shè)備及材料等四個方面,列舉的20-14nm工藝設(shè)備、沉浸式光刻機、20-14nm工藝材料等技術(shù)中,國內(nèi)目前已經(jīng)有技術(shù)力量在攻關(guān),不需要到2025年,國內(nèi)的14nm工藝就能量產(chǎn),相關(guān)材料行業(yè)也會有所突破。 這幾項技術(shù)中,高精尖的主要是EUV光刻機、18英寸設(shè)備及硅片(TSV封裝也算,不過這個另說),我之所以對這個敏感,是因為這兩大技術(shù)都不容易,都是半導(dǎo)體行業(yè)極具挑戰(zhàn)性的新一代技術(shù)、工藝,對中國來說挑戰(zhàn)這些技術(shù)難度可不低。 在EUV光刻機方面,中國科學(xué)院長春光機所牽頭研制了國家科技重大專項02專項——“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”在2016年通過了驗收,雖然這只是技術(shù)上的預(yù)研,離造出EUV光刻機還遠,不過至少說明國內(nèi)還是有團隊在研發(fā)的。 |