第 三 章 約 定 和 定 義
9p9-tJfH. Q)Zk UmW 介紹
x^JjoI2vf 這一章對(duì)本手冊(cè)的習(xí)慣用法和術(shù)語(yǔ)進(jìn)行說(shuō)明。ZEMAX使用的大部分習(xí)慣用法和術(shù)語(yǔ)與光學(xué)行業(yè)都是一致的，但是還是有一些重要的不同點(diǎn)。
'W|@d8}h D(gpF85t 活動(dòng)結(jié)構(gòu)
}S>:!9f 活動(dòng)結(jié)構(gòu)是指當(dāng)前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結(jié)構(gòu)。詳見(jiàn)“多重結(jié)構(gòu)”這一章。
&Qq4xn+J RYKV?f#[H 角放大率
bHH=MLZR: 像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比，角度的測(cè)量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準(zhǔn)。
P7 p' j Y$6W~j 切跡
# fl%~Y 切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認(rèn)情況下，入瞳處是照明均勻的。然而，有時(shí)入瞳需要不均勻的照明。為此，ZEMAX支持入瞳切跡，也就是入瞳振幅的變化。
( r )fx 有三種類型的切跡：均勻分布，高斯型分布和切線分布。對(duì)每一種分布（均勻分布除外），切跡因素取決于入瞳處的振幅變化率。在“系統(tǒng)菜單”這一章中有關(guān)于切跡類型和因子的討論。
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