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    [討論]膜厚儀tooling問(wèn)題 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2018-10-17
    關(guān)鍵詞: 膜厚儀
    請(qǐng)問(wèn)大家,為什么修改tooling膜的厚度也會(huì)變化呢,tooling是怎么控制膜厚的,工作原理是什么?謝謝!
     
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    離線ouyuu
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2018-10-17
    TOOLING是個(gè)比例。 /??nO Vvt  
    因?yàn)槲恢茫嵌,遮擋的不同?span style="display:none"> /1LQx>1d  
    膜厚儀上得到的膜厚和實(shí)際鍍?cè)谄由系哪ず袷遣灰粯拥摹?
    離線morningtech
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2018-10-17
    定義上,膜厚儀中材料 Tooling =  樣品上層厚度/晶振片上層厚度  :O{ ZZ  
    如ouyuu說(shuō),就是個(gè)比例系數(shù)。 Wj31mV  
    有了這個(gè)參數(shù),鍍膜時(shí),膜厚儀上的顯示厚度就等同于是樣品上的厚度。 el^WBC3  
    g2GHsVS  
    X?q,m4+  
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2018-10-17
    改變了tooling參數(shù),那么晶控儀為達(dá)到同樣的樣品厚度(設(shè)計(jì)厚度),監(jiān)控到的晶振片的層厚度就變了。假定二者真實(shí) 比例 未變,那樣品上的厚度也必將變化。 ;TG<$4N  
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2018-10-17
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    morningtech:改變了tooling參數(shù),那么晶控儀為達(dá)到同樣的樣品厚度(設(shè)計(jì)厚度),監(jiān)控到的晶振片的層厚度就變了。假定二者真實(shí) 比例 未變,那樣品上的厚度也必將變化。 W_ hckq.  
     (2018-10-17 11:57)  N++jI(  
    [exIK  
    問(wèn)題是:晶振 頻率變化與質(zhì)量增加之間是存在公式,根據(jù)每秒頻率的變化確認(rèn)厚度的變化, 晶控讀數(shù)不變,頻率變化也是不變化的,更改tooling是改變了膜厚儀什么地方使得實(shí)際厚度變了?
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 2018-10-17
    回 ouyuu 的帖子
    ouyuu:TOOLING是個(gè)比例。 oTPPYi[r  
    因?yàn)槲恢,角度,遮擋的不同?span style="display:none"> wap@q6fz<  
    膜厚儀上得到的膜厚和實(shí)際鍍?cè)谄由系哪ず袷遣灰粯拥摹?span style="color:gray "> (2018-10-17 08:46)  -xc*R%k  
    'ow`ej  
    問(wèn)題是:晶振 頻率變化與質(zhì)量增加之間是存在公式,根據(jù)每秒頻率的變化確認(rèn)厚度的變化, 晶控讀數(shù)不變,頻率變化也是不變化的,更改tooling是改變了膜厚儀什么地方使得實(shí)際厚度變了?
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 2018-10-17
    tooling變了,顯示厚度不變,頻率變化是變的。 ndIf1}   
    晶控顯示厚度讀數(shù)是帶了tooling值的,只是給用戶看的,內(nèi)部計(jì)算到的厚度是變的。 | Vtd !9  
    一個(gè)式子三個(gè)量, 一個(gè)量(顯示厚度,即設(shè)計(jì)厚度)不變,另兩個(gè)同時(shí)變,呵呵。
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    只看該作者 7樓 發(fā)表于: 2018-10-17
    回 morningtech 的帖子
    morningtech:tooling變了,顯示厚度不變,頻率變化是變的。 i+x$Y)=  
    晶控顯示厚度讀數(shù)是帶了tooling值的,只是給用戶看的,內(nèi)部計(jì)算到的厚度是變的。 IFrq\H0  
    一個(gè)式子三個(gè)量, 一個(gè)量(顯示厚度,即設(shè)計(jì)厚度)不變,另兩個(gè)同時(shí)變,呵呵。 (2018-10-17 16:02)  3