中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)合肥微尺度物質(zhì)科學(xué)國(guó)家研究中心教授王曉平和羅毅研究團(tuán)隊(duì)發(fā)展了光刻膠軟掩膜蠟紙印刷技術(shù)，成功實(shí)現(xiàn)了多種形貌三維超結(jié)構(gòu)的可控制備，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了非平整和曲面襯底上微納米結(jié)構(gòu)的自由構(gòu)建。相關(guān)研究成果近日以Utilization of Resist Stencil Lithography for Multidimensional Fabrication on a Curved Surface 為題，發(fā)表在學(xué)術(shù)期刊ACS Nano上�！　� uxW<Eh4H*  
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傳統(tǒng)的自上而下微納加工手段（包括深紫外曝光、電子束曝光以及X射線曝光等技術(shù)）在現(xiàn)代微電子產(chǎn)業(yè)和光學(xué)器件的發(fā)展中發(fā)揮了重要作用，但受限于這些技術(shù)本征的工藝特征，無(wú)法達(dá)到日益迫切的非平面加工要求。團(tuán)隊(duì)利用水解轉(zhuǎn)移的方式將帶有納米圖案的光刻膠薄膜作為蠟紙印刷術(shù)掩膜，利用薄膜的柔性保形特征包裹在曲面和非平整襯底之上，輔以圖形轉(zhuǎn)移手段，成功實(shí)現(xiàn)了具有多維度的微納米結(jié)構(gòu)，特別是三維波浪形超結(jié)構(gòu)的可控制備。這種新方法繼承了傳統(tǒng)微納米曝光技術(shù)在大通量、高分辨率等方面的優(yōu)勢(shì)，極大拓展了這些傳統(tǒng)技術(shù)的功能，在超材料、曲面光柵、局域場(chǎng)器件以及柔性器件等方面展示出重要應(yīng)用前景。 2>^jMln  
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