摘要
-Cyo2wk LG8h@HY&L 高NA物鏡廣泛用于
光學光刻,
顯微鏡等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種
鏡頭進行
光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應。
相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,可以讓用戶深入了解矢量效應。
Ao\P|K9MyL wN.S] '8]p]#l CHGa_ 建模任務
&|x7T<,) NVRzthg%c_ # Wi?I=, 概觀
:\[l~S j""ZFh04 VpJKH\)Rt( 光線追跡仿真
H=@KlSC^ uXc;!* •首先選擇“光線追跡
系統(tǒng)分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作為仿真引擎。
[gT}<W W{-g?)Tou •點擊Go!
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