摘要 GtC7^Z&E  
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高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 o OQ'*7_  
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圖片:1-1Q210141S0B6.png

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建模任務(wù) g &*mozs  
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圖片:1-1Q210141Z3L0.png

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概觀 S!`:E  
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圖片:1-1Q21014202H61.png

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光線追跡仿真 /
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•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 Ev{MCu1!6  
AX;c}0g  
•點(diǎn)擊Go！ tvGlp)?.  
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 I>aGp|4  
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圖片:1-1Q2101423224L.png

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光線追跡仿真 \2