摘要 CH+mzy  
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在干涉儀中，條紋的對(duì)比度可能取決于光源的相干特性。例如，在具有一定帶寬的光源的邁克爾遜干涉儀中，干涉條紋對(duì)比度隨光程差的不同而變化。通過(guò)測(cè)量可動(dòng)鏡不同位置的干涉圖對(duì)比度，可以得到光源的相干長(zhǎng)度。典型的傅里葉變換光譜通常基于這種類(lèi)型的光路。 qttJ*zu  
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圖片:1-1Z505111A3359.png

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建模任務(wù) IAzi:ct  
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圖片:1-1Z505111G2295.png

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橫向干涉條紋——50 nm帶寬 mo  
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圖片:1-1Z505111I9147.png

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橫向干涉條紋——100 nm帶寬 WI}cXXUKm0  
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圖片:1-1Z505111KH46.png

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逐點(diǎn)測(cè)量 $s"{C"4q  
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VirtualLab概覽 %E*Q0/  
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圖片:1-1Z505111U0605.png

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VirtualLab Fusion的工作流程 q!4eVg*  
• 設(shè)置入射高斯場(chǎng) ]mT2a8`c.r  
- 基本光源模型 .-4]FGg3  
• 設(shè)置元件的位置和方向 +\)a p  
-   LPD II：位置和方向 GiS:Nq`$(  
• 設(shè)置元件的非序列通道 2