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【官方培訓】2019年 Zemax成像與激光培訓_06月深圳站

發(fā)布：zemax官方 2019-05-07 15:50 閱讀：13419
Zemax成像設計培訓課程 & 激光、光纖耦合設計培訓課程   (C8 U   
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Zemax中國將于 2019 年 6 月在深圳舉辦官方培訓課程，現(xiàn)已正式啟動報名，歡迎廣大新老客戶報名參加！ U@Z>/ q  
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主辦：Zemax China     J>rka]*  
時間：成像設計：2019年06月17~19日     |     激光、光纖耦合：2019年06月20~21日     ~bdv_|k  
地點：深圳 Bk?8 zYp  
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課程安排： 2v0!` &?M{  
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成像設計 $4Z+F#mx  
本課程為3 天的 OpticStudio 成像設計課程，課程主要覆蓋序列成像設計、優(yōu)化技巧、像質(zhì)評價、熱分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax 圖譜、玻璃材料定義、坐標變換等，及相應的實例鏡頭、棱鏡建模等。 :P3{Nxa  
上課時間第1天第2天第3天
9:00-10:30OpticStudio 軟件功能介紹； , N53Iic  
材料庫、鏡頭庫介紹； z;i4N3-:  
如何定義新材料； =43I1&_   
如何使用鏡頭庫；		MTF； ""co6qo#>  
雙高斯鏡頭設計及優(yōu)化； ')B =|T)  
像質(zhì)評價與圖像模擬；		分析工具應用； +7,8w  
尋找最佳非球面； zVSx$6eiU  
曲率套樣板； 6cJ<9i &  
鏡頭匹配工具；
10:30-10:45茶歇茶歇茶歇
10:45-12:00像差理論介紹； yL0f1nS  
Zemax 像差分析圖譜；		坐標變換； bS>R5*Zp  
坐標斷點面的使用技巧； =M7TCE  
序列模式棱鏡建模； PK_s#uC  
掃描反射鏡設計實例；		Zemax公差分析功能； N_