Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從入門到精通	Zemax光學(xué)設(shè)計(jì)從基礎(chǔ)到實(shí)踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計(jì)及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計(jì)與光學(xué)元件	計(jì)算光學(xué)帶來的成像革命

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助理工程師

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2019-05-30

關(guān)鍵詞：干涉儀

摘要

干涉測量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測量。作為一個(gè)典型的例程，在非序列場追跡的幫助下，我們在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。

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