二維（材料）量子片是二維材料和量子體系不斷發(fā)展和交叉的產物，由于其兼具二維材料的本征特性以及量子限域和突出的邊緣效應，因此受到廣泛關注。然而二維量子片的制備方法紛繁蕪雜，各具特色，卻始終未見報道同時具有普適性和規(guī)�；�的制備策略。普適和規(guī)模制備方法的缺失，一方面極大限制了二維量子片的工業(yè)化應用；另一方面使得系統(tǒng)深入研究二維量子片的性質陷入困境。顯然，二維量子片普適和規(guī)模制備方法的建立具有重大的理論和現(xiàn)實意義。 ?`,<l#sj  
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　　中國科學院國家納米科學中心張勇課題組前期成功實現(xiàn)了過渡金屬二硫族化合物本征量子片的規(guī)模制備（Nano Lett. 2017, 17, 7767-7772）。該制備方法結合鹽輔助球磨和超聲輔助溶劑剝離，雖然實現(xiàn)了規(guī)�；�制備，不過仍然具有局限性。相比于過渡金屬二硫族化合物（如二硫化鉬、二硫化鎢等，面內斷裂強度16-30 GPa），石墨和氮化硼具有更高的面內斷裂強度（如單層石墨烯的面內斷裂強度高達130 GPa；少層氮化硼的面內斷裂強度高達70 GPa）。因此，直接由（未經任何處理的）本體層狀材料出發(fā)，通過全物理（如全機械/力）過程，實現(xiàn)二維量子片的普適和規(guī)模制備，具有巨大的挑戰(zhàn)性。 (4LXoNT  
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