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半導(dǎo)體IC清洗技術(shù) 半導(dǎo)體IC清洗技術(shù) 李 仁 （中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所，北京 101601） 半導(dǎo)體IC清洗技術(shù)摘要：介紹了半導(dǎo)體IC制程中存在的各種污染物類型及其對(duì)IC制程的影響和各種污染物的去除方法, 并對(duì)濕法和干法清洗的特點(diǎn)及去除效果進(jìn)行了分析比較。 關(guān)鍵詞：濕法清洗；RCA清洗；稀釋化學(xué)法；IMEC清洗法；單晶片清洗；干法清洗 中圖分類號(hào)：TN305.97 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：B 文章編號(hào)：1003-353X(2003)09-0044-04 |
